Globalinforesearch 最新報告書が注目の的に!GlobaI Info Researchは、「EUVマスクブランクスの世界市場2026年:メーカー、地域別、タイプ、用途別、2032年までの予測」の最新調査レポートを発表しました。
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https://www.globalinforesearch.jp/reports/1153122/euv-mask-blanks
EUVマスクブランクは、表面にさまざまな光学コーティング膜を施した低熱膨張のガラス基板である。EUVマスクブランクは、基板上にシリコンとモリブデンの交互層を40〜50層以上積層した構造となっている。現在、市場で商業的に供給できるのはHOYAとAGCのみであるが、この市場における技術の実情に基づき、研究用サンプルや少量生産品も使用対象に含めている。
図. EUVマスクブランクの製品画像

業界発展の特徴―技術集約型市場の中で進化を続ける高障壁領域
EUVマスクブランクス市場の最大の特徴は、極めて高い技術障壁と限定的な供給構造にある。EUV露光装置自体が数百億円規模の投資を要する超精密機器であるため、その中核素材であるブランクスも同様に、ナノオーダーでの欠陥制御や多層膜成膜技術など、光学・材料・真空成膜の最先端知見が結集した分野である。製造工程の複雑さから、歩留まり改善の余地が依然として大きく、各社は欠陥ゼロを目指した製造最適化やAI解析による欠陥マッピング技術の導入を進めている。また、EUVマスクブランクスは通常のフォトマスクよりも製造リードタイムが長く、サプライチェーン全体の信頼性確保も重要課題である。結果として、本市場は少数のプレーヤーによる寡占構造を形成し、高品質と安定供給を両立する技術競争が続いている。
図. EUVマスクブランクス世界総市場規模

上記の図表/データは、GIRの最新レポート「2025~2031年のグローバルEUVマスクブランクス市場調査レポート」から引用されている。
市場規模の動向:高成長を続ける次世代半導体素材市場
GIRの最新レポートによれば、グローバルEUVマスクブランクス市場は2025年から2031年にかけて年平均成長率(CAGR)12.5%で拡大し、2031年には市場規模が6.1億米ドルに達すると予測されている。この高成長の背景には、ロジック半導体およびメモリ製造のEUV化の進展、AI・自動運転・5Gなど次世代技術の需要増がある。特に3nm、2nm世代以降の先端プロセスではEUV技術の採用が不可欠となり、露光工程の精度を支えるブランクスへの投資が加速している。市場の重心は日米欧の先進製造国にあり、韓国や台湾のファウンドリ企業も安定調達のため長期契約を強化している。EUVマスクブランクスは単なる素材ではなく、半導体製造戦略の中核を担う戦略的部材へと位置づけを変えつつある。
図. 世界のEUVマスクブランクス市場におけるトップ2企業のランキングと市場シェア(2024年の調査データに基づく;最新のデータは、当社の最新調査データに基づいている)

上記の図表/データは、GIRの最新レポート「2025~2031年のグローバルEUVマスクブランクス市場調査レポート」から引用されている。ランキングは2023年のデータに基づいている。現在の最新データは、当社の最新調査データに基づいている。
主要メーカーと競争構造:AGCとHOYAが牽引する寡占市場
EUVマスクブランクス市場は、極めて限られた企業によって支配されている。GIRの分析によると、AGC Inc.とHOYAが世界市場の約94.0%のシェアを占め、両社が圧倒的な存在感を示している。AGCはガラス素材・成膜技術において長年の蓄積を持ち、EUV用高純度基板の均一性と低欠陥率で業界をリードする。一方、HOYAは光学精密加工技術と高反射多層膜の分野で優位性を持ち、EUV量産ラインへの安定供給体制を確立している。両社の競争は単なるシェア争いではなく、成膜精度・欠陥管理技術・マスク平坦度制御といった微細領域での性能競争に集中している。また、各社は次世代EUVリソグラフィ(High-NA対応)への対応強化を進めており、研究開発投資と量産技術の最適化が今後の競争優位を左右する。
今後の展望:High-NA時代に向けたブレークスルーと新たな成長局面
EUVマスクブランクス産業は、今まさに新たな進化段階を迎えている。半導体微細化が2nmを超え、High-NA(高開口数)EUVリソグラフィの導入が本格化する中で、従来の多層膜構造では対応しきれない精度要求が浮上している。これに伴い、原子層レベルでの膜厚制御技術、欠陥修復を可能にするナノ補正技術、次世代材料(例えば低応力Mo/Si系多層膜や新反射層構造)への研究が急速に進んでいる。また、サステナビリティの観点からも、製造工程のエネルギー効率化やリサイクルガラスの再利用が新たなテーマとなりつつある。EUVマスクブランクスは単なる“素材”ではなく、未来の半導体競争力を決定づける戦略的要素技術として進化を続けるであろう。革新的技術の融合と国際的な供給体制の強化が、本市場を次の10年の成長ステージへと導いていくと考えられる。
本レポートの提供価値:
①消費動向と市場予測分析:世界のEUVマスクブランクス市場の消費動向について、主要地域・国、製品タイプ、用途別に分類し、2021~2025年の過去データ及び2032年までの予測データに基づいて、詳細な分析を行います。
②市場構造の深い理解:EUVマスクブランクス市場を構成する各セグメントを明確に区分し、業界の全体像を把握できるよう支援します。
③主要メーカーの詳細分析:EUVマスクブランクス市場で影響力を持つ企業に焦点を当て、それぞれの販売量、売上、市場シェア、競争ポジションを評価。各社の強みと弱みを整理し、将来の成長戦略について考察します。
④成長動向と市場貢献度の評価:個別の成長トレンドを分析し、将来的な市場の発展とEUVマスクブランクスが果たす役割について詳しく解説します。
⑤市場成長要因の解析:EUVマスクブランクス市場の成長に影響を与える主要因(成長機会、推進力、業界特有の課題、リスク)を特定し、戦略的意思決定に役立つ情報を提供します。
⑥地域別のサブマーケット予測:主要な国・地域ごとにサブマーケットの成長を予測し、各市場の潜在機会を評価します。
⑦競争動向と業界戦略の把握:EUVマスクブランクス市場の競争環境を分析し、企業の市場拡大、契約、製品発表、買収などの動向を調査、把握します。
⑧主要プレイヤーの戦略分析:EUVマスクブランクス市場で活躍する企業の戦略を総合的に分析し、それぞれの市場進出方法や成長方針を明らかにします。
会社概要
Global Info Researchは、企業に豊富な市場開発分析レポートを提供しています。グローバル業界情報を深く掘り下げ、市場戦略的サポートを提供する会社です。Global Info Researchは、企業の戦略的計画と公式情報の報告をサポートするために、グローバル地域で市場情報コンサルティングサービスを提供します。特に電子半導体、化学物質、医療機器などの分野で、カスタマイズされた研究、管理コンサルティング、IPOコンサルティング、産業チェーン研究、データベース、トップ業界サービスを提供しています。
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